let us engineer your "surface" !
Fonksiyonel Yüzeyler
CVD Ekipmanları
Vakum Uygulamaları
MCM, plazma destekli kimyasal buhar biriktirme (PECVD) ve sıcak flament kimyasal buhar biriktirme (HFCVD) gibi en verimli ve tümüyle kuru işlemlerden oluşan kaplama tekniklerinden faydalanmaktadır. Her iki teknikte de kaplanacak yüzey, yüksek sıcaklıklara, çözücülere veya diğer zarar verici durumlara maruz kalmamaktadır. Her ikisinde de substrat yüzeyinde monomerik büyütme blokları kullanılarak farklı polimerizasyon mekanizmaları ile ince film üretilmektedir yani bu iki teknik aşağıdan-yukarıya üretim teknikleridir. Bu iki yöntem birbirinden, polimerizasyon reaksiyonlarının aktive edilmesi yolları ile birbirinden farklılık göstermektedir.
PECVD
PECVD'de, belirli bir monomerin plasma akıntısı oluşturulur. Film oluşturan reaksiyonlardan sorumlu aktif parçacıklar, plazma ışıltısı içerisinde üretilir. Yüksek kaplama hızları, bir dış düzlemsel antene sahip, indüktif-eşlemeli, pant bekleyen RF plazma sistemimizle kolayca sağlanabilir.
Bu sistem ile ilgili detaylı bilgi için lütfen Iconium-P serisi CVD sistemimizi inceleyiniz. Uygulamalarınıza göre çeşitli reaktör ve plazma konfigürasyonları mümkündür.
HFCVD
HFCVD'de, yüzeyin bir kaç santimetre üzerine bir ısıtıcı filaman yerleştirilmiştir. Yüzey düşük sıcaklıklarda tutulurken, başlatıcı madde ısıtıcı filamanların çevresinde aktif hale getirilir. Film oluşturan reaksiyonlar, substrat yüzeyinde, çözelti ortamında taşınan serbest radikal zincir polimerizasyonuna benzer bir yüzey reaksiyonu yoluyla meydana gelir.
Bu sistem ile ilgili detaylı bilgi için Iconium-HF serisi CVD sistemimizi inceleyebilirsiniz. Uygulamalarına bağlı olarak çeşitli reaktör ve filaman konfigürasyonlar üretilebilmektedir.